半导体工业用超纯水设备去离子设备RO反渗透纯水设备

半导体超纯水设备是应用于半导体生产零件清洗的超纯水设备，需要符合特定的用水水质标准,半导体超纯水设备出水水质要符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业电子级水质技术标准(18MΩNaN、15MΩNaN、10MΩNaN、2MΩNaN、0.5MΩNaN)我国电子工业超纯水水质试行标准、半导体工业用纯水指标、集成电路水质标准。

半导体(semiconductor)，指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。半导体材料很多，按化学成分可分为元素半导体和化合物半导体两大类。锗和硅是较常用的元素半导体;化合物半导体包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：砷化镓、磷化镓等;Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化镉、硫化锌等;氧化物：锰、铬、铁、铜的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物组成的固溶体：镓铝砷、镓砷磷等。除上述晶态半导体外，还有非晶态的玻璃半导体、有机半导体等。

电去离子（Electrodeionization）简称EDI，是一种将离子交换技术，离子交换膜技术和离子电迁移技术相结合的纯水制造技术。属高科技绿色环保技术。EDI净水设备具有连续出水、无需酸碱再生和无人值守等优点，已在制备纯水的系统中逐步代替混床作为精处理设备使用。这种技术的环保特性好，操作使用简便，愈来愈多地被人们所认可，也愈来愈多广泛地在医药、电子、电力、化工等行业得到推广。

EDI超纯水设备的主要特点：

1.产水水质高而具有较佳的稳定度高

2.连续不间断制水，不因再生而停机。

3.模块化生产，并可实现全自动控制。

4.不须酸碱再生，无污水排放。

5.无酸碱再生设备和化学药品储运。

6.设备结构紧凑，占地面积小。

7.运行费用及维修成本低。

8.运行操作简单，劳动强度低